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光学镜片抛光:CMP抛光液通常被用在什么方面?

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光学镜片抛光:CMP抛光液通常被用在什么方面?

发布日期:2018-09-12 作者: 点击:

光学镜片一般是需要进行抛光的,光学镜片抛光的方法有机械式和化学溶液2种。化学溶液的方法具体也有几种,今天小编要和大家分享的是CMP抛光液。

  CMP抛光液是一种化学抛光的方法之一,它是一种水溶性的抛光方法,并且不含硫、磷、氯这些添加剂。具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒,对环境无污染等作用。这种方法这么好,那么这种方法通常被用在哪些方面呢?

  1. LED行业

  目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。

光学显微镜镜片抛光

  2.半导体行业

  CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前唯一的可以在整个硅圆晶片上全面平坦化的工艺技术。


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关键词:光学镜片抛光,光学镜片抛光液,光学镜片CMP抛光液

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